Японский гигант индустрии оптики и микроэлектроники Nikon планирует выпустить 32 нм литографический сканер до конца 2008 года. Господин Тошиказу Уматато (Toshikazu Umatate) поведал о разработке двух 193 нм иммерсионных сканеров, поддерживающих технологию экспонирования со сдвоенным шаблоном (double pattering). Также модели будут поддерживать и другие фирменные технологии, такие как Local Fill и Tandem Stage.

Методика двойного экспонирования, к которой и относится double pattering, признается как основа для 32 нм техпроцесса даже противниками технологии, предпочитающими работать «по старинке», используя вакуумную и литографию жестким УФ-излучением.

Недостатком технологии сдвоенного шаблона является высокая цена.

Смысл методики заключается в последовательном использовании двух шаблонов во время прожига пластины, с целью получения рисунка с размерами элементов, достигнуть которые обычными методами оптической литографии нельзя.

Массовое производство CMOS-матриц по 32 нм-технологии и ее стандартизация ожидаются на 2011—2013 год. Чтобы успеть, производители оборудования полупроводниковой промышленности должны разработать соответственные литографические сканеры не позднее начала 2009 года.

Источник — http://www.onliner.ua/

По материалам сайта: http://www.dphotographer.com.ua